特集・解説記事

    極高真空(XHV)技術とその応用(2)

    極高真空(XHV)技術とその応用(2)

    一般社団法人センサイト協議会常務理事 島田芳夫 4 極高真空の質量分析への応用 4.1 四重極分析計 WATMASS-MPH 四重極方式(QMS)の質量分析計で、通常のQMSではセンサ先端部のイオン源からのガス放出のため […]

    半導体製造へのAI活用(2)

    東京エレクトロン(株)先端データ企画部部長 守屋 剛 4.半導体製造プロセスにおける最適化事例 半導体デバイスの微細化、および3次元化により、ターゲットとなる特性(カバレッジ、膜特性、均一性等)を同時に満たすプロセス条件 […]

    圧力真空標準の整備とその普及活動について(1)

    産業技術総合研究所計量標準総合センター圧力真空標準研究グループ吉田 肇 1. はじめに 真空装置に、複数の圧力計や真空計を並べて取り付けて測定した場合、両者の値が完全に一致することは珍しく、多くの場合、多かれ少なかれ差が […]

光技術マガジン オプトロニクスオンライン